· 可在各类环境条件下，通过激光烧蚀实现材料的溅射沉积· 可将衬底加热至 1200℃高温完成薄膜沉积前的预处理，亦可在反应性气体氛围（如氧气氛围）中开展该操作· 宽范围压力稳定控制：5×10⁻¹⁰~10 毫巴· 集成反射高能电子衍射仪的控制与成像功能，实现沉积薄膜的快速表征· 薄膜制备过程中工艺条件的高度重复性· 适配科研与工业应用的标准化设计· 基于单一软件实现工艺与设备运维的自动化控制· 立式激光脉冲沉积工艺结构· 配备光束驱动系统的准分子激光器 / 掺钕钇铝石榴石激光器· 五轴电动衬底操作器· 多款规格衬底架可选：尺寸从 10×10 毫米至 2 英寸不等· 带靶材原位更换系统的六工位靶材操作器· 靶材架规格：1 英寸 / 2 英寸· 靶材与衬底全自动 / 手动转运系统· 本底真空度 1×10⁻⁸~5×10⁻¹¹ 毫巴（取决于真空泵组配置）· 抽气系统（由前级泵、涡轮分子泵、离子泵及钛升华泵组合构成）· 配备辅件的真空计· 带 Z 轴操作器的石英晶振膜厚仪（可在聚焦点完成沉积速率检测，同时实现沉积速率与薄膜厚度的双重监测）· 用于衬底架与靶材架转运的装载锁腔室· 从装载锁腔室至工艺腔室的高可靠性、高速线性转运系统· 观察窗（带挡板的视窗部件）· 带烘焙前集成放气管路的水冷系统· 腔体烘焙系统· 系统主框架为刚性结构，支持尺寸调节· 电控柜与设备主框架一体化集成设计